DWL 66+激光直写系统

研究开发用的激光无掩模直写制程系统：DWL 66+n以低价格实现高分辨率，能于立体构造上进行 3维的绘画方式 。DWL 66+ 适用于掩模板的试制和直接进行描写的研究开发。低价格且高分辨率的激光图形直写系统。最大基板尺寸为 9 × 9"，最小绘画尺寸 0.6?? 。能作出复杂的立体构造进行 3维的绘画。nnDWL 66+ 的基本顾客，包括全球超过 150 家以上的顶尖大学和研究机构。,"

• 销售价：