Heidelberg Instruments

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德国海德堡光刻机

DWL 66+激光直写系统

研究开发用的激光无掩模直写制程系统：DWL 66+n以低价格实现高分辨率，能于立体构造上进行 3维的绘画方式。DWL 66+ 适用于掩模板的试制和直接进行描写的研究开发。低价格且高分辨率的激光图形直写系统。最大基板尺寸为 9 × 9"，最小绘画尺寸 0.6?? 。能作出复杂的立体构造进行 3维的绘画。nnDWL 66+ 的基本顾客，包括全球超过 150 家以上的顶尖大学和研究机构。,"

DWL 4000激光直写系统

DWL 4000 产品线包括两种模式，DWL 4000DD 和可处理更高效能的 DWL 4000FBM。此系统可适用于客制化的激光设备，几乎任何光阻剂都可曝光。让您的制版作业更加得心应手，激光功率不再是您需要担忧的问题。

??G 501激光直写系统

最适合用于研究开发之用: ??G 501rn(桌上型激光掩模板 Photo Mask 绘图机)rn操作不但简单，也可对应3维的绘图模式。rn应用范围：rnMEMS、Bio-MEMS、ASICS、Micro Optics、Micro Fluidics、光学相关等行业、需要开发高精度和高分辨率等应用软件。

??G 101激光直写系统

最适合用于研究开发之用: ??G 101rn (桌上型激光绘图机)rn操作不但简单，也可对应3维的绘图模式

DWL 8000激光直写系统

DWL 8000 精确的温度控制、动态的焦点追踪、closed loop 位置决定，确保完美布置和完全覆盖性的直写范围。搭配海德堡的精密软件控制可以让您在大面积范围中，也可以瞄写 2维和 3维图形新的 DWL 8000 系列，是针对微光学领域的2维和 3维的微构造形式所制作。

DWL 2000激光直写系统

高速、高灵活度，可自动加载基板，也可装载部分其它系统DWL2000 激光掩模板绘图机高速且灵活的机台；在制作掩模板和无掩模激光直写上拥有高分辨率模组生成程序。直写范围可达 200 mm × 200 mm2。

VPG1600激光直写系统

新型 Volume High Generator (VPG) 大尺寸图形发生器，是海德堡科技在大型光学系统上科技的创新与突破的里程碑。其利用独家专利技术宽阔的平行化曝光制程技术 "而开发出来的。,"VPG 是目前掩模板大尺寸、大批量生产的可靠而又经济的解决方案，特别适用于诸如：需要大量掩膜板的电子封装产业、彩色滤光片产业

VPG800激光直写系统

新型 Volume High Generator (VPG) 大尺寸图形发生器，是海德堡科技在大型光学系统上科技的创新与突破的里程碑。其利用独家专利技术宽阔的平行化曝光制程技术 "而开发出来的。,"

VPG 是目前掩模板大尺寸、大批量生产的可靠而又经济的解决方案，特别适用于诸如：需要大量掩膜板的电子封装

DWL66+

DWL66+激光光刻系统是一个经济的，高分辨率模式发生器为低容量掩模制造和直写。这个系统的灵活性和功能让最终的光刻研究工具用于微电子机械系统，生物微机电，微光学，专用集成电路，微流体，传感器，计算机全息技术，还有其他的微型机构的应用。用DWL66+的客户在世界范围内包含了超过150个领先的大学和研究设备处。这个系统的很多功能一直在与这些机构进行密切的合作开发。

uPG 101 是很经济，容易去用微型发生器进行直写应用和低容量掩模制作的一个系统。这个系统可运用的应用有，微电子机械系统、生物微系统、集成光学、微流道或者其他需要高分辨率的微型系统。他的面积很小只有60*1875px^2，独特的紧凑结构，使得所有的电子分量都可以完整的包含在这个系统中。个人电脑可以用来控制这个系统，这个基于操作软件的图形用户界面使用户更容易去进行设计，生成目录，自动对准和生成曝光。

MLA 100 无掩模光刻仪

MLA100的应用领域包括生命科学，微机电系统，微光学，半导体，传感器，执行器，微光机电系统，材料研究，纳米管，石墨烯，这任何一项应用都需要微光显示结构。

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