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DWL66+激光光刻系统是一个经济的，高分辨率模式发生器为低容量掩模制造和直写。这个系统的灵活性和功能让最终的光刻研究工具用于微电子机械系统，生物微机电，微光学，专用集成电路，微流体，传感器，计算机全息技术，还有其他的微型机构的应用。用DWL66+的客户在世界范围内包含了超过150个领先的大学和研究设备处。这个系统的很多功能一直在与这些机构进行密切的合作开发。
重要特征选项
最大基板尺寸9”x 9”
最小描绘尺寸0.6um
最小描绘网格10nm
先进的灰度曝光模式
实时的自动对焦系统
客户特定激光源
矢量和栅格曝光模式
可交换的写模式
摄像系统计量和校准
前后面对齐
人工气候室
多种数据输入格式
用户编程接口
技术参数
写入模式 | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 |
地址网格（nm） | 10 | 20 | 25 | 50 | 100 | 200 |
最小结构大小（um） | 0.6 | 0.8 | 1 | 2 | 4 | 7 |
写速度（mm^2/min） | 6 | 25 | 39 | 145 | 500 | 1000 |
边缘粗糙度（3σ，nm） | 50 | 70 | 80 | 110 | 160 | 240 |
线宽均匀度（3σ，nm） | 60 | 80 | 100 | 180 | 250 | 500 |
线条测量精度（3σ，nm） | 100 | 120 | 150 | 250 | 400 | 800 |
