海德堡μMLA无掩膜光刻机

μMLA 桌面式无掩膜光刻机：灵活高效的科研级直写光刻解决方案

产品概述

核心优势

• 双模曝光，灵活切换： 独家支持光栅扫描 (Raster Scan) 与矢量扫描 (Vector Scan) 两种模式。
• 光栅扫描： 速度快，图形保真度高，曝光时间不受图形密度限制，适合大面积填充。
• 矢量扫描： 专为曲线、圆弧及高精度轮廓设计，边缘光滑度极佳。
• 速度与分辨率解耦： 配备独特的分辨率调整模块，用户可根据需求在软件中自由选择分辨率，从而在保证精度的前提下最大化曝光速度。
• 碎片化处理能力： 具备精确的光学自动对焦和边缘检测功能，可直接对不规则碎片或小片样品进行精准定位曝光，极大提升了实验的便捷性。
• 多波长兼容： 支持 LED (365nm/390nm) 与 激光 (375nm/405nm) 多种光源，适应不同光刻胶的工艺需求。
• 典型应用领域
• 微光学 (Micro-Optics)： 二元光学元件 (DOE)、衍射透镜、光栅制造。
• 微机电系统 (MEMS)： 传感器、执行器的原型开发。
• 微流控 (Microfluidics)： 芯片实验室 (Lab-on-a-chip) 结构制造。
• 超材料与纳米结构： 复杂周期性结构及非周期性图案化。
• 掩模版制作： 小批量掩模版的快速直写。
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• 产品参数

• 参数项目	详细指标
  曝光模式	光栅扫描 / 矢量扫描 (可选配双模块)
  光源类型	LED 或 激光二极管 (365nm - 405nm)
  最小分辨率	0.6 μm (模块一) / 1.0 μm (模块二)
  最小线宽	0.8 μm (模块一) / 1.5 μm (模块二)
  套刻对准精度	500 nm (5x5mm²) / 1000 nm (50x50mm²)
  最大曝光速度	10 - 100 mm²/min (取决于分辨率设置)
  最大基板尺寸	6英寸 (150mm)
  最大曝光面积	100 mm × 100 mm
  设备尺寸	640mm (W) × 840mm (D) × 530mm (H)