德国Nanoscribe的纳米级高分辨率3D打印系统

3D微纳加工设备

Quantum X shape是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合原理 （2PP） 的可定制 3D 激光光刻系统提供独有的 3D 打印技术，使其成为 2.5D 和 3D 形状的快速原型制作和晶圆级批量处理的优秀工具，并同时具备亚微米级的精度和准确度。

 技术特点概要

· 快速原型制作，高精度，高设计自由度，简易明了的工程流程

· 工业验证的晶圆级批量生产

· 200 个典型中尺度结构的过夜打印量

· 使用全新XLF打印套件，一次实现打印30立方厘米部件

· 广泛的特定应用和通用打印材料

· 模块化、可定制的系统

 

打印流程及尺寸范围

· 基于双光子聚合的高分辨率3D打印技术

· 应用于快速精确表面结构的双光子灰度光刻技术

· 纳米级打印 – SF 打印套件，可在 x/y 方向上控制特征尺寸，最小可达 100 纳米

· 微尺度打印 – MF 打印套件，用于打印 50 至 700 微米的典型尺寸

· 中尺度打印 – LF 打印套件，尺寸可达几毫米

· 宏观打印 – XLF Print Set 可加快最大 50 x 50 x 12 mm³ 的厘米级物体的批量生产

标准参数

表面粗糙度 (Ra)	≤ 5 nm
最小特征尺寸1	100 nm
形状准确度	≤ 200 nm
批量生产	200个标准结构的通宵产量
Single print field diameter	up to ≥ 4,000 µm
最大扫描速度	6.25 m/s/透镜放大倍数2

 

系统基本特征

打印技术	基于双光子聚合的逐层3D打印 具有体素调节能力的双光子灰度光刻
基片	显微镜载片(3” x 1” / 76 x 26 mm2) 硅片，1” (25.4 mm) 到 8” (200 mm) 玻璃、硅及其他不透明材料
光刻胶	Nanoscribe IP胶 （聚合物打印） Nanoscribe GP-Silica胶（玻璃打印） 兼容第三方及各类自主材料
最大打印面积	50 x 50 mm²

提供的数据可能因光刻胶及几何形状而有不同
1 各空间方向上100nm的特征尺寸可控
2 e.g. 10倍物镜放大倍率：625nm/s