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DWL66+  
DWL66+
DWL66+激光光刻系统是一个经济的,高分辨率模式发生器为低容量掩模制造和直写。这个系统的灵活性和功能让最终的光刻研究工具用于微电子机械系统,生物微机电,微光学,专用集成电路,微流体,传感器,计算机全息技术,还有其他的微型机构的应用。用DWL66+的客户在世界范围内包含了超过150个领先的大学和研究设备处。这个系统的很多功能一直在与这些机构进行密切的合作开发。
uPG 101  
uPG 101
uPG 101 是很经济,容易去用微型发生器进行直写应用和低容量掩模制作的一个系统。这个系统可运用的应用有,微电子机械系统、生物微系统、集成光学、微流道或者其他需要高分辨率的微型系统。他的面积很小只有60*1875px^2,独特的紧凑结构,使得所有的电子分量都可以完整的包含在这个系统中。个人电脑可以用来控制这个系统,这个基于操作软件的图形用户界面使用户更容易去进行设计,生成目录,自动对准和生成曝光。
MLA 100 无掩模光刻仪  
MLA 100 无掩模光刻仪
MLA100的应用领域包括生命科学,微机电系统,微光学,半导体,传感器,执行器,微光机电系统,材料研究,纳米管,石墨烯,这任何一项应用都需要微光显示结构。