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DWL66+

DWL66+激光光刻系统是一个经济的,高分辨率模式发生器为低容量掩模制造和直写。这个系统的灵活性和功能让最终的光刻研究工具用于微电子机械系统,生物微机电,微光学,专用集成电路,微流体,传感器,计算机全息技术,还有其他的微型机构的应用。用DWL66+的客户在世界范围内包含了超过150个领先的大学和研究设备处。这个系统的很多功能一直在与这些机构进行密切的合作开发。

重要特征选项

最大基板尺寸9x  9

最小描绘尺寸0.6um

最小描绘网格10nm

先进的灰度曝光模式

实时的自动对焦系统

客户特定激光源

矢量和栅格曝光模式

可交换的写模式

摄像系统计量和校准

前后面对齐

人工气候室

多种数据输入格式

用户编程接口

技术参数

写入模式

1

2

3

4

5

6

地址网格(nm)

10

20

25

50

100

200

最小结构大小(um)

0.6

0.8

1

2

4

7

写速度(mm^2/min)

6

25

39

145

500

1000

边缘粗糙度(3σ,nm)

50

70

80

110

160

240

线宽均匀度(3σ,nm)

60

80

100

180

250

500

线条测量精度(3σ,nm)

100

120

150

250

400

800

 

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价格 销量 人气
DWL66+  
DWL66+
DWL66+激光光刻系统是一个经济的,高分辨率模式发生器为低容量掩模制造和直写。这个系统的灵活性和功能让最终的光刻研究工具用于微电子机械系统,生物微机电,微光学,专用集成电路,微流体,传感器,计算机全息技术,还有其他的微型机构的应用。用DWL66+的客户在世界范围内包含了超过150个领先的大学和研究设备处。这个系统的很多功能一直在与这些机构进行密切的合作开发。
uPG 101  
uPG 101
uPG 101 是很经济,容易去用微型发生器进行直写应用和低容量掩模制作的一个系统。这个系统可运用的应用有,微电子机械系统、生物微系统、集成光学、微流道或者其他需要高分辨率的微型系统。他的面积很小只有60*1875px^2,独特的紧凑结构,使得所有的电子分量都可以完整的包含在这个系统中。个人电脑可以用来控制这个系统,这个基于操作软件的图形用户界面使用户更容易去进行设计,生成目录,自动对准和生成曝光。
MLA 100 无掩模光刻仪  
MLA 100 无掩模光刻仪
MLA100的应用领域包括生命科学,微机电系统,微光学,半导体,传感器,执行器,微光机电系统,材料研究,纳米管,石墨烯,这任何一项应用都需要微光显示结构。